Empyrean Argus 采用了多项先进技术来保证其精度和性能。采用了先进的几何计算引擎,可以保证高精度、高效处理版图数据。采用了独特的层次处理技术,可以有效避免重复计算,从而提高版图处理效率。针对电路比较难题,发明了全新的图同构算法,不仅能够高效比较普通电路,而且可以高效比较高度对称和重复性强的电路。采用了高效的并行技术,可以获得接近线性的加速比。采用了独特的数据压缩技术和内存管理技术,可以高效处理超大规模版图数据。
Empyrean Argus 经过了大量的用户版图测试和验证,精度和性能可以很好满足65nm以上工艺物理验证需求。针对 65nm 以下工艺需求,HES 正在积极和 Foundry 以及设计公司合作,DFM 工具将很快发布。