华大九天针对晶圆制造厂的工艺开发和 IP 设计需求，提供了相关的晶圆制造 EDA 工具，包括原有工具器件模型提取工具、IBIS 模型建模工具、光刻掩模版布局设计工具、存储器编译器开发工具、单元库特征化提取工具、存储器电路特征化提取工具、混合信号电路模块特征化提取工具、单元库/IP 质量验证工具、版图集成与分析工具以及模拟电路设计全流程 EDA 工具等以及新发布光刻掩膜版数据查看和分析工具、参数化版图单元开发工具、界面化版图单元开发工具、测试芯片版图自动化生成工具、PDK自动化开发和验证平台等工具，为晶圆制造厂提供了重要的技术支撑。

• IBIS 模型建模工具Empyrean Demeter ®实现了从IBIS模型提取、整合、语法检查到精度验证等所有步骤的全流程功能，广泛应用于各类缓冲器的模型提取，如动态随机存取存储器、SerDes、模数/数模转换器等。
• 光刻掩模版布局设计工具Empyrean Mage®可以实现一次曝光尽可能多的芯片，从而减少曝光次数，降低机台损耗，并可以优化晶圆布局，以获得最高的晶圆利用率，为光刻掩模版布局设计提供了完备和高效的解决方案。
• 光刻掩模版数据查看和分析工具Empyrean GoldMask® Viewer主要用于掩模版实际生产前的数据检查分析，可以产生掩模版检测阶段的参考数据，为掩模版数据分析提供了完备和高效的解决方案。
• 参数化版图单元开发工具Empyrean Hail® PCM基于Python语言提供了丰富的参数化版图单元API，支持用户通过编写Python代码来开发设计PCell，创建和修改Python对象，完成几何图形、实例等对象的创建、移动、复制等功能。
• 界面化版图单元开发工具Empyrean Hail® PLM为 PDK 开发以及 IP 设计用户提供了 PDK 开发工具市场中效能与兼容性最佳的 PCell 设计解决方案。
• 测试芯片版图自动化生成工具Empyrean Hail® TPM以界面化可变参数单元为基础，可以批量实现基本版图单元的生成以及测试版图的自动布局布线和拼接，大幅提高了测试芯片的设计效率，广泛应用于各种测试芯片的设计，如工艺模型测试芯片的快速生成等。
• PDK自动化开发和验证平台Empyrean PBQ®支持PDK开发项目的管理，包括开发文件管理、代码编辑和PDK编译功能，实现PDK的高效开发，同时提供不同的PDK验证机制，可调用设计平台和物理验证工具，实现PDK的自动化验证，保证PDK的质量。

         华大九天在已有工具基础上，在晶圆制造EDA的多个细分领域形成了多个解决方案，包括 PDK套件开发方案、标准单元库和SRAM等基础IP的完整工具链支撑方案、光刻掩膜版数据准备和分析验证方案、物理规则验证和可制造性检查方案等，为晶圆制造厂提供了重要的工具和技术支撑。