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光刻掩模版布局设计工具

Empyrean Mage

  光刻掩模布局设计工具Empyrean Mage®可将单种或多种芯片自动排布到光刻机单次最大曝光区域中,根据指定规则自动放置掩模或晶圆生产时需要的各类监控图形(例如Alignment/Testkey/Process Control Monitor/Barcode/Qrcode等),生成划片道图层,产生光刻掩模版框架,以实现一次曝光尽可能多的芯片,从而减少曝光次数,降低机台损耗。此外,Empyrean Mage®还可以优化晶圆布局,以获得最高的晶圆利用率,为光刻掩模版布局设计提供了完备和高效的解决方案。

  Empyrean Mage®支持对单芯片和多芯片进行自动排布,提供多种调整方式可以对排布结果进行灵活调整,同时支持检查是否存在芯片重叠的问题。工具支持通过模块化定义Frame设计,可以批量生成Mark,并按用户设定规则放置到划片槽区域,还可以定义划片槽层与摆放的Mark关系,通过不同的规则设定输出适合晶圆生产工艺所需要的极性。工具还支持自动计算芯片在晶圆上的最优排布以得到晶圆的最佳利用率,可以输出Layout结果与用户自定义模板坐标文件。Empyrean Mage®提供了交互式界面可以查看Frame设计结果和晶圆上芯片的排布情况,支持在界面上进行调整优化。

  Empyrean Mage®适用于晶圆代工厂的Tape-out流程和Maskshop数据准备流程中,提供了快速方便的光刻掩模版布局设计方案,目前已在多家晶圆代工厂和Maskshop得到应用。

相关下载
  • 光刻掩模版布局设计工具 Empyrean Mage datasheet
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